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无压烧结和反应烧结碳化硅热压碳化硅陶瓷泵套的研磨抛光性能突破

时间: 2025-06-23

  ,成为替代传统金属泵体的革命性材料。然而,热压烧结工艺带来的高表面粗糙度(Ra 0.5-1.2 µm)与亚表层微裂纹,严重制约其高压密封性能与介质流动性。本文以热压烧结工艺为基点,系统解析碳化硅泵套研磨抛光的技术挑战、优化策略与工业验证,揭示材料-工艺协同创新的科学内涵。

  热压烧结(Hot Pressing, HP)通过高温(1950-2200℃)与高压(20-50 MPa)的协同作用,实现碳化硅致密化与晶粒优化(图1):

  通过粗抛-中抛-精抛-超精抛四阶段工艺,实现表面粗糙度从Ra 1.2 µm降至0.02 µm(图2):

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